靶材原位监控方法、系统、计算机设备和存储介质.pdfVIP

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2023-12-30 发布于四川
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本申请涉及一种靶材原位监控方法、系统、计算机设备和存储介质，将靶材和溅射设备首次配合使用时采集到的电压电流参数和靶材厚度间的对应关系进行记录，建立监测反馈机制。靶材原位监控方法包括：在溅射设备中建立自检程序，所述自检程序包括依次进行的多个沉积阶段，多个沉积阶段的溅射功率互不相同；在所述靶材和所述溅射设备配合使用的过程中，当需要对所述靶材的厚度进行检测时，启动所述溅射设备执行所述自检程序，在分别获取到多个所述沉积阶段的电压电流参数后，根据该多个所述沉积阶段的电压电流参数和电压电流参数与靶材厚度的对

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117305793A

(43)申请公布日2023.12.29

(21)申请号202210680415.2

(22)申请日2022.06.16

(71)申请人长鑫存储技术有限公司

地址23