光刻掩膜生成模型的训练方法、装置、设备及存储介质.pdfVIP

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2023-12-30 发布于四川
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光刻掩膜生成模型的训练方法、装置、设备及存储介质.pdf

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本申请实施例提供了一种光刻掩膜生成模型的训练方法、装置、设备及存储介质，涉及芯片和机器学习技术领域。所述方法包括：通过光刻掩膜生成模型，生成芯片版图对应的预测掩膜图；通过预训练完成的晶圆图案生成模型，生成预测掩膜图对应的预测晶圆图案，晶圆图案生成模型是基于神经网络构建的机器学习模型；根据预测掩膜图和预测晶圆图案，确定训练损失；根据训练损失调整光刻掩膜生成模型的参数。本申请实施例提供的技术方案，提升了光刻掩膜生成模型的训练效率。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117313640A

(43)申请公布日2023.12.29

(21)申请号202210673948.8G06N20/00(2019.01)

(22)申请日2022.06.