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本发明提供一种热处理装置和热处理装置的温度调节方法,其能够高效地调节处理容器的温度,从而能够提高作为基片处理整体的吞吐量。一种热处理装置,其包括:处理容器,其具有能够处理基片的内部空间;和调温炉,其配置于所述处理容器的周围,从所述处理容器的外侧对所述基片进行加热。此外,热处理装置1包括内部调温单元,其相对于所述处理容器能够相对移动,且在与开放所述内部空间的开口相对地配置的状态下,向所述内部空间供给用于调节所述处理容器的温度的调温用气体。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117316809A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202310721786.5
(22)申请日2023.06.16
(30)优先权数据
2022-102990202
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