GB/T 43313-2023碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试　共焦点微分干涉法.pdf

ICS77.040

CCSH21

中华人民共和国国家标准

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GBT433132023

碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试

共焦点微分干涉法

Testmethodforsurfaceualitandmicroiedensitofolishedsilicon

qyppyp

—

carbidewafersConfocalanddifferentialinterferometrotics

yp

2023-11-27发布2024-06-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

/—

GBT433132023

前言

/—《:》

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GBT1.120201

起草。

。。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(/)与全国半导体设备和材料标准

SACTC203

化技术委员会材料分技术委员会(//)共同提出并归口。

SACTC203SC2

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本文件起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所山东天岳先进科技股份有限公司常州

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臻晶半导体有限公司湖州东尼半导体科技有限公司厦门坤锦电子科技有限公司中国电子科技集团

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公司第十三研究所广东天域半导体股份有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司中国科学

、()、。

院半导体研究所TCL环鑫半导体天津有限公司浙江东尼电子股份有限公司

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