黑色抗蚀剂组合物和利用近红外线光刻法的黑色图案的形成方法.pdfVIP

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2023-12-13 发布于四川
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黑色抗蚀剂组合物和利用近红外线光刻法的黑色图案的形成方法.pdf

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本发明提出了与用于形成黑矩阵等黑色图案的光刻法相关的新方法。此外，本发明涉及适合于该新工艺的遮光性优良的黑色抗蚀剂组合物。本发明是以透射近红外线的黑色颜料(A)、在近红外区具有吸收的敏化染料(B)、自由基聚合引发剂或产酸剂(C)、粘合剂树脂(D)作为必需成分的黑色抗蚀剂组合物。在此，黑色颜料(A)优选使用内酰胺类颜料、苝类颜料、甲亚胺类颜料，作为适合与该黑色颜料一起的敏化染料，包含菁染料、方酸菁染料、酞菁染料。本发明为应用近红外线的新型黑色图案的光刻工艺。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117222942A

(43)申请公布日2023.12.12

(21)申请号202280031469.4(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限