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本发明提供一种基板处理装置,能够防止颗粒的附着。基板处理装置具备:处理槽;腔室,其包围处理槽;溶剂蒸气喷嘴,其设置在腔室内,且配置在比处理槽高的位置;排气泵,其配置在比处理槽的上表面低的位置,从排气口对腔室内进行排气;基板保持部,其具有保持以隔开预定间隔且以铅垂姿势对置的方式排成一列配置的多个基板的保持部件以及对保持部件的基端部进行支撑的背板,能够在腔室内且遍及处理槽内的位置和处理槽的上方的位置而移动;遮蔽板,其在基板保持部位于处理槽的上方的位置的状态下,设置在多个基板中的最远离背板的前端基板与
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117219537A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202310682656.5H01L31/18(2006.01)
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