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提供了一种半导体存储器装置和半导体存储器装置的制造方法。该半导体存储器装置可包括:具有阶梯结构的栅极层叠结构,其包括多个层间绝缘层和多个导电层;管状绝缘层,其穿透栅极层叠结构的阶梯结构;以及导电栅极触点,其连接到多个导电层中的一个的端部,该导电栅极触点延伸到管状绝缘层的中央区域。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117119805 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202310093006.7 (22)申请日 2023.01.31 (30)优先权数据 10-2022-0062816
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