曝光装置以及布线图案形成方法.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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曝光装置以及布线图案形成方法.pdf

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为了提高FO‑WLP的布线图案形成的生产能力，曝光装置：空间光调制器；创建部，从对在第一基板上配置有多个的半导体芯片的集各自所包含的半导体芯片的位置进行测量的测量系统获取测量结果，基于测量结果决定将半导体芯片间连接的布线图案，创建在生成所决定的布线图案时空间光调制器的控制所用的第一控制数据，并将该第一控制数据存储在第一存储部内；以及曝光处理部，使用第一控制数据控制空间光调制器，对将半导体芯片间连接的布线图案进行曝光，在曝光处理部对与第一基板不同的第二基板进行曝光处理的期间内，执行第一基板上的半导

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117120934 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202280027047.X (74)专利代理机构北京市金杜律师事务所