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本发明公开了一种镀膜进气结构，包括一个或两个并列的离子源及设置在离子源两侧的分气块，分气块的出气口至基板的间距小于离子源的出气口至基板的间距；离子源的两侧还设置有对应分气块的陶瓷板。该发明可直接增加N个这种进气结构独立独立单元，组合高效便捷；分气块导入的沉积气体更靠近基板，成膜质量高且沉积气体利用率高；离子源导入的为产生等离子体的混合气体，且离子源在分气块的作用下远离沉积气体，可减少离子源表面的沉积，降低对离子源放电、表面掉渣以及气孔被堵的风险；陶瓷板用于隔离反应气体，保证成膜质量和效率，以及隔
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107385416 A (43)申请公布日 2017.11.24 (21)申请号 20171
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