一种双面高粗糙度频率选择薄膜及其制备方法和应用.pdfVIP

一种双面高粗糙度频率选择薄膜及其制备方法和应用.pdf

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本发明涉及一种双面高粗糙度频率选择薄膜及其制备方法和应用。该频率选择薄膜包括高表面粗糙度聚合物基底层、导电频选微结构层和高表面粗糙度二氧化硅/聚合物表面层,其制备方法包括:将聚合物树脂溶液丝网印刷在磨砂玻璃板上,加热固化形成高表面粗糙度聚合物基底层;在高表面粗糙度聚合物基底层上印制导电浆料,加热固化形成导电频选微结构层;将SiO2/聚合物树脂混合溶液丝网印刷在导电频选微结构层上,加热固化形成高粗糙度二氧化硅/聚合物表面层;使高表面粗糙度聚合物基底层与玻璃板分离,获得双面高粗糙度频率选择薄膜。本发

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116995441 A (43)申请公布日 2023.11.03 (21)申请号 202310901658.9 H05K 3/12 (2006.01) (22)申请日 2023.07.2

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