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本发明公开了一种二次反射匀光系统,包括反光罩体、遮光件和光源件,反光罩体在末端处设置有基座;两侧的末端之间形成反光罩体的开口;遮光件和光源件设置于基座上,遮光件比光源件更靠近开口;遮光件在朝向光源件的一侧上设有第一反射面,反光罩体在朝向光源件的一侧上设有第二反射面。二次反射匀光系统将光源件设在反光罩体的末端,采用遮光件配合进行遮光和一次反射,以及反光罩体二次反射,使一部分光线经过遮光件的一次反射和反光罩体的二次反射后出射,另一部分光线经过反光罩体的一次反射后形成光强接近于圆形的散射光出射,从而获
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116838977 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202310779005.8 F21Y 115/10 (2016.01) (22)申请日 2023.06
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