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本发明提供一种Taiko环去除晶圆的切割膜重贴方法,包括将形成有Taiko环的晶圆背面朝上放置;在晶圆表面依次放置层间纸和待贴膜晶圆;进行背面贴膜工艺,贴附切割膜;对位于Taiko环上方的切割膜进行UV曝光;移除形成有Taiko环的晶圆和所述层间纸。本发明借助形成有Taiko环的晶圆完成重新张贴切割膜,解决了现有Taiko环去除晶圆因无法张贴切割膜导致报废的问题,提升了晶圆良率;而且方法使用产线现有的晶圆和设备即可完成,无采购机台的成本问题和污染风险问题。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116825707 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310722976.9 (22)申请日 2023.06.16 (71)申请人 华虹半导体(无锡)有限公司 地址
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