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本发明实施例公开了一种缺陷检测方法、检测装置、电子设备及存储介质,该缺陷检测方法包括根据待测表面中的周期图案的尺寸,在物镜视场内确定最大成像视场;其中,最大成像视场的图形可由至少一个周期图案的图形拼接而成,或者,周期图案的图形可由至少一个最大成像视场的图形拼接而成;采用步进扫描方式,依次在待测表面上以最大成像视场进行扫描,获取待测表面的图像;对比待测表面的图像与标准图像,对待测表面的缺陷进行识别和定位。该缺陷检测方法实现成像视场的尺寸与待测表面中的周期图案的尺寸的动态匹配,提高了成像视场的利用率
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116818774 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310790062.6 (22)申请日 2023.06.29 (71)申请人 上海御微半导体技术有限公司 地址
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