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本公开提供了一种掩膜版及掩膜版质量测试方法,掩膜版包括曝光区和非曝光区,曝光区设置有主图形,非曝光区设置有至少一个图形密度监测标记,图形密度监测标记包括量测图形以及包围量测图形的密度填充图形;其中,至少一个图形密度监测标记中的密度填充图形的密集度与主图形的密集度匹配,图形密度监测标记中的量测图形的实际尺寸和目标尺寸的偏差用于监测掩膜版的质量。本公开提供的掩膜版中,通过设置包括量测图形以及密度填充图形的图形密度监测标记,通过监测量测图形的实际尺寸和目标尺寸之间的偏差,以确定主图形受图案的排布密集程
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116819883 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310897865.1 (22)申请日 2023.07.20 (71)申请人 长鑫科技集团股份有限公司 地址
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