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本申请提供一种全息投影曝光系统，包括：照明光源，用于发射光源光；滤波调制组件，位于所述光源光的光路上，用于将所述光源光调制为参考光出射，所述参考光为会聚的球面波；空间光调制器，位于所述参考光的光路上，用于接收全息图信息，并根据所述全息图信息调制接收到的参考光的振幅，以出射照明光，所述照明光为会聚的球面波；以及控制器，电连接所述空间光调制器，用于加载所述全息图信息至所述空间光调制器，以控制所述空间光调制器对所述参考光的调制方式；所述照明光照射待加工材料时，在所述待加工材料的曝光面形成对应所述全息图
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116819905 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310899449.5 (22)申请日 2023.07.20 (71)申请人 清华大学深圳国际研究生院 地址
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