集成电路器件和制造该集成电路器件的方法.pdfVIP

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2023-09-27 发布于四川
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集成电路器件和制造该集成电路器件的方法.pdf

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本发明提供一种集成电路器件和制造该集成电路器件的方法，其中该集成电路器件包括具有沿平行于衬底的上表面的方向彼此分开的第一区域和第二区域的衬底。界面器件隔离层填充在第一区域与第二区域之间的界面区域中的界面沟槽，并且限定位于第一区域中的第一有源区的一部分和位于第二区域中的第二有源区的一部分。绝缘图案从第一区域延伸到界面器件隔离层的上部分。绝缘图案覆盖界面器件隔离层的至少一部分和第一有源区。绝缘图案在界面器件隔离层的上表面上限定底切区域。掩埋图案实质上填充底切区域。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 108987406 A (43)申请公布日 2018.12.11 (21)申请号 20181