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本申请属于半导体集成电路技术领域，具体涉及一种光刻胶涂覆方法。该光刻胶涂覆方法包括：在晶圆的第一表面滴第一液体，驱动晶圆旋转以使第一液体从滴落点向晶圆的边缘运动，带走晶圆的第一表面上的颗粒物；在晶圆的第一表面喷涂粘结剂后，再次向晶圆的第一表面滴第一液体，驱动晶圆旋转以使第一液体从滴落点向晶圆的边缘运动，通过第一液体的运动使吸附在硅片表面的气相雾状的粘结剂均匀铺在晶圆的第一表面；最后向晶圆的中心滴光刻胶，驱动晶圆旋转使光刻胶均匀涂覆在晶圆的第一表面。采用本申请实施例的光刻胶涂覆方法可以在晶圆表面旋
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116520641 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310317785.4 (22)申请日 2023.03.28 (71)申请人 天府兴隆湖实验室 地址 6102
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