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本申请提供了一种卡通二阶直接光照的渲染方法、装置及系统,该方法包括:针对待渲染的卡通形象在直接光照下的每一个阴影点,确定所述每一个阴影点的渐变范围的最大值t1和最小值;基于所述最大值、所述最小值、光照方向和法线方向,计算渐变的当前位置;基于所述渐变的当前位置以及光照的颜色,来计算每一个阴影点的颜色;基于所述每一个阴影点的颜色,来渲染直接光照下的所述待渲染的卡通形象的阴影。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116524102 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310402953.X (22)申请日 2023.04.14 (71)申请人 世优 (北京)科技有限公司 地址
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