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一种基于掩膜相位调制的超分辨显微成像系统，依次布置包括：用于产生单色平面波的照明光源；用于调制各相邻区域的相位的光学掩膜版；用于反射产生的单色平面波的成像样品；用于接收远场光强的显微物镜和筒镜；用于成像的CCD；不同于普通的光学显微镜，本发明中增加了可提升系统成像分辨率的光学掩膜，使得系统能够突破衍射极限，获得超分辨成像效果，且成像分辨率仅取决于掩膜版的单元尺寸；相较于其他超分辨成像技术，本发明无需逐点扫描成像，无需荧光染色，无需图像后处理，且与普通光学显微镜有很强的兼容性，具有操作简单，节约成
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116520545 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310480281.4 (22)申请日 2023.04.28 (71)申请人 西安电子科技大学 地址 7100
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