一种光可调与波分复用集成结构.pdfVIP

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2023-07-02 发布于四川
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一种光可调与波分复用集成结构.pdf

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本申请公开了一种光可调与波分复用集成结构，该结构包括：光可调与波分复用集成结构由SOI晶圆加工而成，SOI晶圆包括基底硅、埋氧层和器件层，其中，在器件层加工出如下结构：刻蚀衍射光栅，用于将光进行衍射后输出，其中，经刻蚀衍射光栅后的不同波长的光在平板波导中获得不同的相位延迟，并聚焦在不同的输出波导位置；可调光衰减结构，用于对来自刻蚀衍射光栅的光进行调节；热隔离槽，在刻蚀衍射光栅和可调光衰减结构之间，用于进行对刻蚀衍射光栅和可调光衰减结构进行热隔离。通过本申请解决了现有技术中光波分复用所存在的问题，

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113721324 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202111007852.X (22)申请日 2021.08.30 (71)申请人湖南工学院地址 4