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本发明公开一种晶圆沟槽腐蚀装置,涉及半导体器件生产技术领域,包括:工作台、转移机构、晶圆架、吹气机构。工作台上依次设有腐蚀池、收集池和清洗池;转移机构包括沿工作台长度方向移动的横杆,横杆上设有两个对称布置且相向移动的夹持模块,夹持模块包括两个对称布置的夹杆,夹杆沿竖直和横杆的宽度方向移动,用于夹持晶圆架;晶圆架有多个,分布于腐蚀池、收集池和清洗池内,晶圆架上设有承载框,用于承载晶圆;吹气机构设于收集池内,包括穿设于收集池中的传动轴,传动轴上设有两个转杆,转杆上设有多个吹气口,用于向晶圆架吹气。将
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116344411 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310603769.1 (22)申请日 2023.05.26 (71)申请人 四川上特科技有限公司 地址 62
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