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本发明公开了一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法,属于抗菌纳米材料制备领域。本发明所述锗酸锌基质抗菌纳米材料的化学组成通式为Zn2GeO4:xM,0.001≤x≤0.02,其中,Zn2GeO4为基质,M为具有抗菌作用的金属离子。本发明中的锗酸锌基质抗菌纳米材料经水热法合成,制备简单,成本低,可用于工业化生产;材料在细菌感染部位具有优异的广谱抗菌性能,金属离子缓释可以长期维持较高的抗菌浓度,抗菌周期长,诱导细菌产生耐药性的可能性极小;在细菌感染部位微酸性环境中,材料的余辉光强度
(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113425684 B (45)授权公告日 2022.08.09 (21)申请号 202110633407.8 A61K 33/06 (2006.01)
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