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本发明公开了一种基于CCD成像检焦对准的微结构加工方法和装置,通过设计光路使CCD与DMD共轭,当硅片处于焦面位置时,DMD上图案通过远心成像系统在硅片上成像清晰,同时由于CCD与DMD共轭,故硅片上的图案在CCD上也成像清晰,从而可以利用该共轭关系,以CCD上成像清晰度作为DMD曝光焦面的位置检测。本发明提出的基于CCD成像检焦对准的微结构加工方法和装置在保证DMD微结构加工检焦和对准的同时,可实现光刻过程中的实时成像,能够满足任意时刻在硅片的任意位置实现任意图案的曝光光刻,便于各种二维材料的
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113391527 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110751586.5 (22)申请日 2021.07.02 (71)申请人 中国科学院光电技术研究所
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