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本发明公开了一种氧化镓MOCVD装置,包括进气系统和反应室，所述进气系统包括N2管路和SiH4/H2管路，还包括O2管路和Ar管路，所述O2管路进气口处设置有氧气纯化器，所述Ar管路进气口处设置有氩气纯化器。所述O2管路设置有氧气露点仪，所述氧气露点仪通过气体管道和所述氧气纯化器连接。所述SiH4/H2管路进气口处设置有硅烷露点仪。该方案实在原有的氮化镓设备上进行改造，解决了目前没有氧化镓专业设备的问题，也实现了对落后产能设备氮化镓MOCVD的再利用，兼有科研和节约产业成本的意义。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113388823 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110655861.3 (22)申请日 2021.06.11 (71)申请人 苏州尚勤光电科技有限公司
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