阵列基板及其制备方法和显示装置.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.83万字
约 19页
2023-06-14 发布于四川
举报
版权申诉

阵列基板及其制备方法和显示装置.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明涉及阵列基板及其制备方法和显示装置。所述阵列基板包括基板，基板包括非显示区和显示区；位于非显示区的基板上设置有薄膜晶体管和有机膜层，有机膜层位于薄膜晶体管远离基板的一侧，薄膜晶体管包括栅极、有源层、位于栅极以及有源层之间的栅绝缘层，源漏极、和第一钝化层；所述阵列基板满足以下条件的至少之一：(1)以下结构的至少之一在所述基板上的正投影未延伸至所述显示区：所述有机膜层、所述栅绝缘层以及所述第一钝化层；(2)所述栅绝缘层、所述第一钝化层中的至少之一满足：消光系数小于0.005。由此，本发明通过移

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113113431 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110392470.7 H01L 21/28 (2006.01)