一种阵列基板的制备工艺、阵列基板及显示装置.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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一种阵列基板的制备工艺、阵列基板及显示装置.pdf

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本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种阵列基板的制备工艺、阵列基板及显示装置。该阵列基板的制备工艺包括以下步骤：对第一膜层进行湿法刻蚀，形成第一盲孔；在对第一膜层进行刻蚀的一侧形成第二膜层，第二膜层覆盖第一盲孔；在对齐第一盲孔处对第二膜层进行湿法刻蚀，形成第二盲孔；对第二盲孔进行干法刻蚀，形成贯穿第一膜层和第二膜层的过孔。本申请通过分步湿法刻蚀,第一步针对第一膜层进行湿法刻蚀形成未贯穿第一膜层的第一盲孔，第二步湿法刻蚀仅针对第二膜层，第二膜层完全覆盖第一盲孔，通过第二次湿法刻蚀后的第二膜层能

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113113353 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110391099.2 H01L 27/12 (2006.01) (22)申请日 2