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一种存储器装置及其形成方法包括上覆在衬底上并位于存储器阵列区中的由存储器单元形成的阵列。存储器单元中的每一者包括包含底部电极、存储器元件、顶部电极的垂直堆叠以及位于每一垂直堆叠的侧壁上的介电侧壁间隔件。底部电极包括平顶部分，平顶部分水平延伸超过介电侧壁间隔件的外周边。装置还包括离散刻蚀停止介电层以及金属单元接触结构。本发明可在形成底部电极时保持顶部电极的厚度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113130531 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 20201
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