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本发明提供一种膜厚控制装置，包括膜厚控制仪、振荡器、真空罩，所述真空罩内设有探头和挡板，膜厚控制仪通过振荡器与真空罩内的探头相连，探头包括石英晶振片和待镀膜基片，用于基于石英晶振片的振动对待镀膜基片进行镀膜，并将振动频率反馈给膜厚控制仪，膜厚控制仪驱动探头发生振动，并控制挡板闭合，通过真空罩底部的蒸发源将镀膜材料蒸发到探头的待镀膜基片上，在镀膜过程中，通过实时测量探头的振动频率，来控制探头中待镀膜基片的镀膜厚度，待镀膜基片的镀膜厚度达到预设厚度时，控制挡板打开，遮挡蒸发源所蒸发的镀膜材料，镀膜结
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113106409 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110426189.0 (22)申请日 2021.04.20 (71)申请人 湖北华鑫光电有限公司
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