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本公开的实施例总体上涉及一种在半导体制造中使用的系统。更具体地,本公开的实施例涉及一种用于脉冲式DC偏压和箝位基板的系统。在一个实施例中,系统包括等离子体腔室,所述等离子体腔室具有ESC以用于支撑基板。电极嵌入在ESC中并电耦合至偏压与箝位电路。偏压与箝位电路至少包括整形DC脉冲电压源和箝位网络。箝位网络包括DC电压源和二极管,以及电阻器。整形DC脉冲电压源与箝位网络并联连接。当用脉冲式DC电压偏压基板时,偏压与箝位网络自动维持基本上恒定的箝位电压,所述箝位电压是跨电极与基板的压降,从而导致改良
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112868083 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 201980068179.5 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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