一种消除光通过光掩膜造成绕射与干涉的方法.pdfVIP

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2023-06-01 发布于四川
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一种消除光通过光掩膜造成绕射与干涉的方法.pdf

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本发明公开了一种消除光通过光掩膜造成绕射与干涉的方法，是一种可应用于微纳加工领域中光刻机设备光源的设置方法。本发明在光刻机设备的多点阵列光源中混合两种以上相近波长的点光源，可有效消除因光通过光掩膜微结构造成绕射与干涉，而使得微纳成像图形的失真。尤其可消除对大面积下重复周期性排列的微纳尺度图形单元成像时，受到光绕射与干涉的成像结果。本发明提出一种消除光通过光掩膜造成绕射与干涉的方法，相较于通过改善光路中的光学部件的方式来消除光绕射与干涉的方法，单纯改善光源的方式将更为简单且光源利用率高、照明均匀性

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112526830 A (43)申请公布日 2021.03.19 (21)申请号 202011442262.5 (22)申请日 2020.12.08 (71)申请人郑州大学地址 45