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本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置(1)。基板处理方法具有向由固定销(103)在比第一板(101)的上表面(102)更靠上方的位置支撑的基板(W)供给处理液的步骤(S39)。在向基板(W)供给处理液的步骤(S39)中,从第一吹出口(105)向上方吹出气体,并且从第二吹出口(106)向上方吹出气体。第一吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面(102)的中央部。第二吹出口(105)形成于第一板(101)的上表面
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112542399 A (43)申请公布日 2021.03.23 (21)申请号 202010823747.2 (22)申请日 2020.08.17 (30)优先权数据 2019-1715
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