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本发明提供一种生产NLDMOS器件的方法,还提供了通过该方法得到的NLDMOS器件。该方法包括首先提供一P+型衬底;然后在所述低阻P+型衬底两侧形成STI区域和Pwell层;再在所述Pwell层的上方生成栅极区域;然后在所述STI区域之间生成漏极区域和源极区域;最后在所述Pwell层的底部注入硼元素,然后将Body的电极从所述Pwell层的底部引出,并形成Body区域;本发明提供的方法生产得到的NLDMOS器件面积大大减小,使电流检测功能的器件可集成。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112510095 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 202011384126.5
(22)申请日 2020.12.01
(71)申请人 无锡先瞳半导体科技有限公司
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