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本发明提供了一种微纳多层结构复合材料及其制备方法和应用。首先，通过溅射离子源产生的Ar+离子束对Ag靶进行溅射，同时采用中能辅助离子源产生的高能量离子束对基材表面进行轰击，在金属箔材表面形成Ag纳米晶过渡层；然后，利用磁控溅射在Ag过渡层基础上继续沉积Ag薄膜构成微纳多层结构的复合材料。本发明在增强微纳多层结构复合材料中纳米晶薄膜与基体界面结合性能的同时，提升了复合材料的导电性能并降低了表面Ag薄膜熔点，以便在进行电阻焊时减小焊接电流，缩短焊接时间，避免引起基体的损伤以及焊接层组织因固溶化合析出
(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112501568 B (45)授权公告日 2022.06.24 (21)申请号 202011376101.0 (51)Int.Cl.
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