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本发明公开了一种用于化学镀或清洗的装置及方法。该装置包括槽体及可脱离地插设于槽体中的产品放置架，装置具有工作状态，当装置在工作状态时，产品放置架插设在槽体中，产品放置架的一侧形成第一腔体，产品放置架的另一侧形成第二腔体，第一腔体和第二腔体能够通过产品上的通孔连通；装置还包括：液流机构，其具有进液口和排液口；第一腔体及第二腔体中的一者和进液口连通，另一者和排液口连通；当装置在工作状态时，第一腔体和第二腔体之间具有压力差。本发明针对具有高深宽比的通孔的产品的化学镀及清洗，解决了化学镀液或清洗液难以进
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112495926 A (43)申请公布日 2021.03.16 (21)申请号 202011393142.0 (22)申请日 2020.12.02 (71)申请人 盛青
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