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一种用于处理基板的装置包括：腔室，在该腔室中具有处理空间；支撑单元，其在该处理空间中支撑所述基板；气体供应单元，其将处理气体供应到处理空间中；以及等离子体生成单元，其从处理气体生成等离子体。支撑单元包括：支撑板，其上放置基板；第一环，其围绕放置在支撑板上的基板；第二环，其布置在第一环下方并且围绕支撑板；以及气体供应构件，其在第一环上方供应气体，并且气体供应构件包括穿过在第一环和第二环而垂直形成的气体管线。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112447485 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 202010913262.2 (22)申请日 2020.09.03 (30)优先权数据 10-2019-0
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