MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法.pdfVIP

下载本文档

2
0
约8.96千字
约 10页
2023-05-30 发布于四川
举报
版权申诉

MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法属于精密半导体技术领域；所述MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法首先调整多孔转盘位置，然后将保护膜粘贴或镀膜在基板上，并将基板放置在上表面与凸透镜的焦平面重合的位置，在控制副光源发出平行光，然后驱动多孔转盘转动，每次在第一透光孔转动到矩形透光窗口位置时，控制主光源发光，并由凸透镜汇聚到基板上表面完成光刻定位，最后在多孔转盘转动一周后，完成基板上一排插孔的光刻定位；本发明MEMS探针测试基座超精密光刻定位方法，通过采用一种全新的光学定位手段，能够在制作

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112462576 B (45)授权公告日 2022.04.19 (21)申请号 202011365963.3 审查员顾洪 (22)申请日 2020.11.29