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本发明涉及半导体器件制造技术领域,且公开了一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置,包括抛光座,所述抛光座的顶部转动连接有修整盘,所述修整盘的上方设有上支撑座,所述上支撑座的内部固定连接有活动架,所述活动架的内部固定连接有柔性管,所述柔性管的一侧固定连接有弹簧杆,所述柔性管的另一侧固定连接有弹簧片。当抛光液补充完成后,漂浮板在重力的作用下,向上移动,使检测头内的体积减少,使液压油被挤压入外套管的内部,使液压油推动滑动座一内的推杆一向内侧移动,使推杆一带动挡板堵住进液管的顶端,使该装置可以及时根据抛
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112454173 B (45)授权公告日 2021.12.14 (21)申请号 202011204672.6 B24B 37/005 (2012.01)
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