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本发明涉及一种具有TiO2/C复合包覆层的介孔氧化亚硅负极材料及其制备方法。所述制备方法包括:在保护气氛中对SiO原料进行行歧化反应,得到歧化后的硅氧化物,歧化温度950℃~1200℃,歧化时间1小时~10小时;将歧化后的硅氧化物,用氢氟酸进行刻蚀,制备得到多孔SiOx,0
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112436148 B (45)授权公告日 2022.03.18 (21)申请号 202011323953.3 (51)Int.Cl.
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