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本发明提供的一种纵向磁场真空灭弧室触头，包括一对导电杆、一对触头杯和一对触头片，其中每个触头杯的杯口和杯底分别设置有一个触头片和一个导电杆；同时，两个触头杯杯口相对布置；每个触头杯杯底沿其圆周方向均布有若干个呈螺旋状分布的第一槽，且两个触头杯杯底开设的第一槽的螺旋方向相同；每个触头杯杯壁上沿其圆周方向开设有若干个斜槽，且两触头杯杯壁的开槽方向相同；每个触头片边缘沿圆周方向开设有呈螺旋状分布的第二槽，且触头片开槽与触头杯杯壁上的斜槽槽口对齐；本发明涉及的真空灭弧室触头结构的纵向磁场强度最大值由中心
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112420444 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011431717.3 (22)申请日 2020.12.09 (71)申请人 西安交通大学 地址
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