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本发明提供了一种在Al2O3陶瓷基体表面磁控溅射镀纳米级铜膜的方法,该方法通过磁控溅射在Al2O3陶瓷基体上镀纳米级铜膜,使得膜层对基体的保护性更好,实现了良好的导电性和膜基结合力;制备的镀层致密、平整,硬度较高,耐磨性较好,磨损率下降,抗高温氧化性增强,从而改善材料的显微组织,提高材料的综合性能,同时膜层具有良好的电学性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112410742 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011188724.5 (22)申请日 2020.10.30 (71)申请人 东莞
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