等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法.pdf

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本发明提供一种等离子体喷镀装置和等离子体喷镀方法。提供能够控制等离子体射流的形状的技术。本公开的一技术方案的等离子体喷镀装置具备：供给部，其利用第1气体运送喷镀材料的粉末，并从顶端部的开口喷射该粉末；等离子体生成部，其使用喷射出的所述第1气体生成芯轴与所述供给部共通的等离子体；气体流路，其向所述等离子体的生成空间供给第2气体，该第2气体用于形成以所述供给部的中心轴线为旋转轴线的涡流；以及磁场产生部，其在所述等离子体的生成空间相对于所述供给部的中心轴线产生期望的分布的磁场。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112410717 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202010819371.8 (22)申请日 2020.08.14 (30)优先权数据 2019-1525