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本发明涉及覆铜陶瓷基板技术领域,特别涉及覆铜氮化物陶瓷基板的制造方法,包括如下步骤:步骤S1,采用一种氮化物陶瓷基板,在所述氮化物陶瓷基板两侧表面分别进行钝化处理,分别形成一层钝化层结构;步骤S4,将带有预氧化面的铜箔与具有稳定钝化层结构的氮化物陶瓷基板在惰性气氛中进行DBC接合处理,形成覆铜氮化物陶瓷基板。与现有技术相比,本发明的覆铜氮化物陶瓷基板的制造方法可解决铜箔与氮化物陶瓷基板界面的气孔过多问题,气孔率可控制在5%以内,提高覆铜氮化物陶瓷基板的接合强度、热传导特性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112271139 A (43)申请公布日 2021.01.26 (21)申请号 202011281671.1 (22)申请日 2020.11.16 (71)申请人 深圳思睿辰新材料有限公司
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