一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置.pdfVIP

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本发明公开了一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置,具体涉及镀膜技术领域,包括机箱密封门、托盘和带动托盘在机箱密封门内垂直移动的电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的输出端与端板相连,端板连接在托盘的端头且位于托盘的内腔,所述托盘上间距安装有坩埚,且托盘的底部安装有使坩埚的尺寸可调节的底调节板,所述底调节板经传动连板与电动伸缩杆相连。本发明,通过使底调节板、托盘和坩埚的尺寸可根据镀膜过程中挥发面尺寸的需要进行适应性的调节,防止因坩埚中镀膜材料的挥发面尺寸一定、坩埚内镀膜材料距离电子枪距离、角度相异,导致雾化挥发程

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112267096 A (43)申请公布日 2021.01.26 (21)申请号 202011155291.3 (22)申请日 2020.10.26 (71)申请人 天长市石峰玻璃有限公司

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