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用于处理基板的装置包括:处理腔室,在处理腔室中限定有处理空间;用于在处理空间中支撑基板的支撑单元;用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元;以及加热单元,其设置在支撑单元中用于加热支撑在支撑单元上的基板,其中加热单元包括:用于加热基板的多个灯;以及设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口,其中该窗口包括:板状的基座;和光调节装置,其形成在基座上以扩散或会聚从灯发出的光。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112242329 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202010700754.3 (22)申请日 2020.07.20 (30)优先权数据 10-2019-0
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