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一种沉积装置包括:基板支撑件,其中基板被固定到所述基板支撑件;面对所述基板的靶;第一磁体组件,被设置在所述靶下方,并且包括在第一方向上延伸并具有第一长度的第一磁体和至少部分地围绕所述第一磁体的第二磁体;以及第二磁体组件,被设置在所述靶下方且在基本垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第一磁体组件间隔开,并且包括在所述第一方向上延伸并具有大于所述第一长度的第二长度的第一磁体和至少部分地围绕所述第二磁体组件的所述第一磁体的第二磁体,其中所述第一磁体组件的所述第二磁体和所述第二磁体组件的所述第二磁体在所
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112239854 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202010680103.2 (22)申请日 2020.07.15 (30)优先权数据 10-2019-0
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