离子注入装置及离子注入方法.pdfVIP

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2023-05-25 发布于四川
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离子注入装置及离子注入方法.pdf

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本发明的课题在于长期维持射束电流的测定精度。离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112242287 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 20201