用于均匀气体分配的化学气相沉积喷头.pdfVIP

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2023-05-25 发布于四川
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用于均匀气体分配的化学气相沉积喷头.pdf

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化学气相沉积(CVD)工具在衬底上方提供更为均匀的试剂气体的流动和分配。CVD工具包含处理室和喷头。喷头包含具有多个孔图案的气体分配表面，这些孔图案优选为(但非排他性地)减少或消除线条或对称性的非对称图案。这些孔图案包含各种不同类型的螺线或其近似物，其包含(但不限于)阿基米德螺线、伏格螺线或费马螺线。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112262229 A (43)申请公布日 2021.01.22 (21)申请号 201980039689.X 达米安 ·马丁 ·斯莱文　