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本发明属于半导体的技术领域,公开了一种利用磁畴壁钉扎的自旋转移力矩存储器,自上而下包括钉扎层、势垒层和自由层,在所述钉扎层的顶面、自由层的底面分别设置有读操作电极,在所述自由层的左右两端均设置有写操作连接区域,所述写操作连接区域具有钉扎效应,用于存储器写操作时的电连接,所述自由层的磁畴壁左右两侧的磁畴方向相反,且位于左端的写操作连接区域与磁畴壁左侧的磁畴方向一致,位于右端的写操作连接区域与磁畴壁右侧的磁畴方向一致。整体结构简单,效率高,适应性强,极具应用前景。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112185441 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202010896102.1 (22)申请日 2020.08.31 (71)申请人 上海
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