反射型掩模基板及制备方法、反射型掩模版及制备方法.pdfVIP

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2023-05-19 发布于北京
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反射型掩模基板及制备方法、反射型掩模版及制备方法.pdf

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本发明提供了一种反射型掩模基板及制备方法、反射型掩模版及制备方法。该反射型掩模基板和反射型掩模版中，利用反射堆叠层内的离子注入区界定出相移区的相移图案，消除了以传统方式形成相移图案时产生的凸起的相移膜层结构，有效解决了因凸起的相移膜层结构引起的阴影效应而导致图案偏移的问题。并且，本发明提供的反射型掩模版的制备方法，其相应的利用离子注入的方式形成具有相移图案的离子注入区，不仅可以实现工艺简化，并且工艺精度更高，有利于提高最终界定出的相移掩模图案的图形精度。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114859651 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210780838.1 (22)申请日 2022.07.05 (71)申请人上海传芯半导体有限公司地址 20