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2023-05-19 发布于北京
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本发明提供了一种气体混合装置，涉及半导体沉积设备的技术领域，包括混合主体和挡板；混合主体内设置有混合通道，挡板位于混合主体内部，挡板与混合通道对应布置，挡板与混合通道的端部形成混合腔，挡板上开设有通孔，通孔与混合通道呈错位布置，通过将混合主体内输送工艺气体和载气，当工艺气体和载气在混合通道输送的过程中，利用挡板对混合通道内的气体进行阻挡，使得工艺气体和载气在受阻的情况下迫使进入至混合腔中进行扩散，最后通过通孔排出，实现了对工艺气体和载气扩散后均匀混合，避免了比较重的工艺气体朝向一个方向流动，从而

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114849510 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210780972.1 (22)申请日 2022.07.05 (71)申请人拓荆科技(北京)有限公司地址 1